循环水恒温的应用领域：
       生化领域：旋转蒸发仪、阿贝折光仪、旋光仪、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物发酵罐、化学反应器（合成器）等。材料领域：电镜、X射线衍射、X荧光、真空溅射电镀、真空镀膜机、ICP刻蚀、各种半导体设备、疲劳试验机、化学沉积系统、原子沉积系统等。医疗领域：超导磁共振、直线加速器、CT、低磁场核磁共振、X光机、微波治疗机、医用冷帽、降温毯等等。物化领域：激光器、磁场、各种分子泵、扩散泵、离子泵以及包括材料领域。使用的各种需水冷设备。
低温不冻液配比
      A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）使用中需经常检查低温不冻液的密度使其满足如下要求：1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不冻液用水代替时，其zui低温度必须在0℃以上。
       冷却水选型相关：通常，制冷能力在1000W以下机型小型循环水冷却恒温器广泛运用小功率激光器、平行蒸发仪、平行定量浓缩仪、平行反应器、蒸馏仪等实验室冷凝装置等。制冷能力在6000W以下中型循环水冷却恒温器广泛应用于AAS、ICP、ICP-MS、电镜等分析仪器行业，旋转蒸发仪、索氏提取、固液萃取仪、凯氏定氮仪等实验室设备，激光打标机、激光切割机等激光仪器及机床行业。制冷能力在10KW以上大型循环水冷却恒温器广泛应用于X－衍射仪、磁质谱仪、疲劳试验机、真空镀膜机、塑料成形设备、激光切割机、X－荧光光谱仪、红外光谱仪、差热分析仪、核磁共振等具有高制冷恒温要求设备。
应用范围：
       对半导体制造装置发热部的冷却：单晶片洗净转载、印刷机、自动夹座安装装置、喷涂装置、离子镀装置、蚀刻装置、单晶片处理装置、切片机、包装机、显影剂的温度管理、露光装置、生磁部分的加热装置等。对激光装置发热部分的冷却：激光加工、熔接机的发热部分、激光标志装置、发生装置、二氧化碳激光加工机等。 其他产业用机器发热部分的冷却：等离子熔接、自动包装机、模具冷却、洗净机械、镀金槽、精密研磨机、射出成型机、树脂成型机的成型部分等。
       分析检测机器的发热部分的冷却： 电子显微镜的光源、ICP发光分光分析装置的光源部分、分光光度计的发热部分、X线解析装置的热源、自动脉冲调幅器的发热部分原子吸光光度计的光源等。水箱可用的纯净水在机内外循环冷却，可保证对水质要求较高的精密仪器的正常运行，延长精密仪器的使用寿命。